질화 규소 결합 탄화 규소
Si3N4 결합 SiC 세라믹 내화물은 고순도 SIC 미세 분말과 실리콘 분말을 혼합한 후 슬립 캐스팅 과정을 거쳐 1400~1500°C에서 반응 소결됩니다.소결 과정에서 고순도 질소를 용광로에 채우면 실리콘이 질소와 반응하여 Si3N4를 생성합니다. 따라서 Si3N4 결합 SiC 재료는 질화규소(23%)와 탄화규소(75%)를 주요 원료로 구성됩니다. , 유기 물질과 혼합하고 혼합물, 압출 또는 붓기에 의해 성형 한 다음 건조 및 질소 처리 후에 만듭니다.
특징 및 장점:
1.H높은 온도 내성
2. 높은 열전도율과 충격 저항
3. 높은 기계적 강도와 내마모성
4.우수한 에너지 효율과 내식성
우리는 고품질의 정밀 가공 NSiC 세라믹 부품을 제공합니다.
1.슬립캐스팅
2. 압출
3.유니 액시얼 프레싱
4. 등방성 프레싱
재료 데이터시트
| >화학 성분 | 식 | 75% |
| Si3N4 | ≥23% | |
| 무료 Si | 0% | |
| 부피밀도(g/cm3) | 2.70～2.80 | |
| 겉보기 다공성(%) | 12～15 | |
| 20℃(MPa)에서의 굽힘강도 | 180～190 | |
| 1200℃(MPa)에서의 굽힘강도 | 207 | |
| 1350℃(MPa)에서의 굽힘강도 | 210 | |
| 20℃(MPa)에서의 압축강도 | 580 | |
| 1200 ℃에서의 열전도도(w/mk) | 19.6 | |
| 열팽창 계수 at1200 ℃(x 10-6/C) | 4.70 | |
| 열충격 저항 | 훌륭한 | |
| 최대.온도(℃) | 1600 | |
WeiTai Energy Technology Co., Ltd.는 고급 반도체 세라믹 공급업체이자 고순도 탄화규소 세라믹(특히 재결정 SiC)과 CVD SiC 코팅을 동시에 제공할 수 있는 중국 유일의 제조업체입니다.이 밖에도 알루미나, 질화알루미늄, 지르코니아, 질화규소 등 세라믹 분야에도 주력하고 있다.
당사의 주요 제품은 탄화규소 에칭 디스크, 탄화규소 보트 토우, 탄화규소 웨이퍼 보트(광발전 및 반도체), 탄화규소 용광로 튜브, 탄화규소 캔틸레버 패들, 탄화규소 척, 탄화규소 빔, CVD SiC 코팅 및 TaC입니다. 코팅.결정 성장 장비, 에피택시 장비, 에칭 장비, 패키징 장비, 코팅 장비, 확산로 등 반도체 및 광전지 산업에 주로 사용되는 제품입니다.
우리 회사는 성형, 소결, 가공, 코팅 장비 등 완전한 생산 장비를 보유하고 있어 제품 생산에 필요한 모든 링크를 완성할 수 있으며 제품 품질에 대한 더 높은 제어 가능성을 갖습니다.제품의 요구 사항에 따라 최적의 생산 계획을 선택할 수 있어 비용이 절감되고 고객에게 보다 경쟁력 있는 제품을 제공할 수 있습니다.우리는 주문 배송 요구 사항을 기반으로 온라인 주문 관리 시스템과 함께 유연하고 효율적으로 생산 일정을 계획할 수 있어 고객에게 더 빠르고 보장된 배송 시간을 제공합니다.
