실리콘 카바이드 코팅 소개
당사의 CVD(화학 기상 증착) SiC(실리콘 카바이드) 코팅은 내구성과 내마모성이 뛰어난 층으로, 높은 부식 및 내열성을 요구하는 환경에 이상적입니다.실리콘 카바이드 코팅CVD 공정을 통해 다양한 기판에 얇은 층으로 도포되어 우수한 성능 특성을 제공합니다.
주요 특징
● -뛰어난 순도: 초순수 성분을 자랑하는99.99995%, 우리의SiC 코팅민감한 반도체 작업의 오염 위험을 최소화합니다.
● - 우수한 저항력: 내마모성과 부식성이 모두 뛰어나 까다로운 화학 및 플라즈마 설정에 적합합니다.
● -높은 열전도율: 뛰어난 열적 특성으로 극한의 온도에서도 안정적인 성능을 보장합니다.
● -치수 안정성: 낮은 열팽창 계수로 인해 광범위한 온도에서 구조적 무결성을 유지합니다.
● - 강화된 경도: 경도 등급40GPa, 당사의 SiC 코팅은 상당한 충격과 마모를 견뎌냅니다.
● -매끄러운 표면 마감: 거울같은 마무리감을 선사하여 파티클 발생을 줄이고 작업 효율성을 높여줍니다.
응용
세미세라 SiC 코팅다음을 포함하여 반도체 제조의 다양한 단계에서 활용됩니다.
● -LED 칩 제조
● -폴리실리콘 생산
● -반도체 결정 성장
● -실리콘 및 SiC 에피택시
● -열산화 및 확산(TO&D)
우리는 유동층 원자로에 적합한 고강도 등방성 흑연, 탄소 섬유 강화 탄소 및 4N 재결정 탄화 규소로 제작된 SiC 코팅 부품을 공급합니다.PECVD, 실리콘 에피택시, MOCVD 공정에 사용되는 STC-TCS 컨버터, CZ 유닛 반사경, SiC 웨이퍼 보트, SiC웨이퍼 패들, SiC 웨이퍼 튜브, 웨이퍼 캐리어.
이익
● - 수명 연장: 장비 가동 중단 시간 및 유지 관리 비용을 대폭 줄여 전반적인 생산 효율성을 향상시킵니다.
● -품질 향상: 반도체 공정에 필요한 고순도 표면을 구현하여 제품의 품질을 향상시킵니다.
● - 효율성 향상: 열 및 CVD 공정을 최적화하여 사이클 시간을 단축하고 수율을 높입니다.
기술 사양
● - 구조: FCC β상 다결정체, 주로 (111)방향
● -밀도: 3.21g/cm³
● -경도: 2500 비커스 경도 (500g 하중)
● -파괴인성: 3.0MPa·m1/2
● -열팽창계수(100~600°C): 4.3x10-6k-1
● -탄성계수(1300℃):435 평점
● - 일반적인 필름 두께:100μm
● - 표면 거칠기:2-10 μm
순도 데이터(글로 방전 질량 분석법으로 측정)
| 요소 | ppm | 요소 | ppm |
| Li | < 0.001 | Cu | < 0.01 |
| Be | < 0.001 | Zn | < 0.05 |
| 알 | < 0.04 | Ga | < 0.01 |
| P | < 0.01 | Ge | < 0.05 |
| S | < 0.04 | As | < 0.005 |
| K | < 0.05 | In | < 0.01 |
| Ca | < 0.05 | Sn | < 0.01 |
| Ti | < 0.005 | Sb | < 0.01 |
| V | < 0.001 | W | < 0.05 |
| Cr | < 0.05 | Te | < 0.01 |
| Mn | < 0.005 | Pb | < 0.01 |
| Fe | < 0.05 | Bi | < 0.05 |
| Ni | < 0.01 |
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