TaC 코팅 Epi 웨이퍼 캐리어

간단한 설명:

Semicera의 TaC 코팅 에피 웨이퍼 캐리어는 에피택셜 공정에서 탁월한 성능을 발휘하도록 설계되었습니다. 탄탈륨 카바이드 코팅은 뛰어난 내구성과 고온 안정성을 제공하여 최적의 웨이퍼 지지력과 향상된 생산 효율성을 보장합니다. Semicera의 정밀 제조는 반도체 응용 분야에서 일관된 품질과 신뢰성을 보장합니다.


제품 세부정보

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TaC 코팅 에피택셜 웨이퍼 캐리어일반적으로 고성능 광전자 장치, 전력 장치, 센서 및 기타 분야의 준비에 사용됩니다. 이것에피택셜 웨이퍼 캐리어기탁을 말한다.TaC후속 장치 준비를 위해 특정 구조와 성능을 가진 웨이퍼를 형성하기 위해 결정 성장 공정 중에 기판에 얇은 필름을 형성합니다.

일반적으로 화학기상증착(CVD) 기술을 사용하여 제조합니다.TaC 코팅 에피택셜 웨이퍼 캐리어. 금속 유기 전구체와 탄소 소스 가스를 고온에서 반응시켜 결정 기판 표면에 TaC 막을 증착할 수 있다. 이 필름은 우수한 전기적, 광학적, 기계적 특성을 가질 수 있어 다양한 고성능 소자 제조에 적합합니다.

 

Semicera는 다양한 부품과 캐리어에 특화된 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅을 제공합니다.Semicera의 선도적인 코팅 공정은 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅을 통해 고순도, 고온 안정성 및 높은 화학적 내성을 달성하여 SIC/GAN 결정 및 EPI 층의 제품 품질을 향상시킵니다.흑연 코팅 TaC 서셉터), 주요 원자로 구성 요소의 수명을 연장합니다. 탄탈륨 카바이드 TaC 코팅을 사용하는 것은 엣지 문제를 해결하고 결정 성장 품질을 향상시키는 것이며 Semicera는 탄탈륨 카바이드 코팅 기술(CVD)을 획기적인 방식으로 해결하여 국제 선진 수준에 도달했습니다.

 

수년간의 개발 끝에 Semicera는CVD TaCR&D 부서의 공동 노력으로 SiC 웨이퍼는 성장 과정에서 불량이 발생하기 쉽지만, 사용 후에는TaC, 그 차이는 상당합니다. 아래는 TaC 유무에 따른 웨이퍼와 단결정 성장을 위한 Simicera 부품을 비교한 것입니다.

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TaC 유무에 관계없이

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TaC 사용 후(오른쪽)

게다가 Semicera의TaC 코팅제품비해 수명이 길고 고온 저항이 뛰어납니다.SiC 코팅.실험실 측정 결과에 따르면 우리는TaC 코팅장시간 동안 최대 섭씨 2300도의 온도에서 일관되게 작동할 수 있습니다. 다음은 샘플의 몇 가지 예입니다.

 
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CNN 처리, 화학적 세정, CVD 코팅
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