설명
SiC 코팅 흑연 베이스 서셉터semicera의 MOCVD용은 에피택셜 성장 공정에서 탁월한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 흑연 베이스의 고품질 탄화규소 코팅은 MOCVD(금속 유기 화학 기상 증착) 작업 중에 안정성, 내구성 및 최적의 열 전도성을 보장합니다. 세미세라의 혁신적인 서셉터 기술을 사용하면 향상된 정밀도와 효율성을 얻을 수 있습니다.Si 에피택시그리고SiC 에피택시응용 프로그램.
이것들MOCVD 서셉터다음과 같은 다양한 필수 반도체 부품을 지원하도록 설계되었습니다.PSS 에칭 캐리어, ICP 에칭 캐리어, 그리고RTP 캐리어, 다양한 에칭 및 에피택셜 작업에 다용도로 사용할 수 있습니다. 높은 표준에 대한 Semicera의 노력은 이러한 서셉터가 현대 반도체 생산의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 보장합니다.
다음 분야에서 사용하기에 이상적입니다.LED 에피텍셜서셉터, 배럴 서셉터 및 단결정 실리콘 프로세스인 이러한 서셉터는 팬케이크 서셉터 구성을 포함하여 다양한 웨이퍼 크기에 맞게 맞춤화될 수 있습니다. 또한 광전지 부품을 다루는 데 매우 효과적이므로 효율적인 태양전지 개발에 중요한 구성 요소가 됩니다.
또한 MOCVD용 SiC 코팅 흑연 베이스 서셉터는 SiC 에피택시의 GaN에 최적화되어 고급 반도체 재료와의 높은 호환성을 제공합니다. 수율 향상 또는 에피택시 성장 품질 향상에 중점을 두는 경우, semicera의 서셉터는 하이테크 산업에서 성공하는 데 필요한 신뢰성과 성능을 제공합니다.
주요 특징
CVD-SIC 코팅의 주요 사양:
SiC-CVD | ||
밀도 | (g/cc) | 3.21 |
굴곡강도 | (MPa) | 470 |
열팽창 | (10-6/K) | 4 |
열전도율 | (W/mK) | 300 |
포장 및 배송
공급 능력:
달 당 10000 조각/조각
포장 및 배송:
포장:표준 및 강력한 포장
많은 부대 + 상자 + 판지 + 깔판
포트:
닝보/심천/상하이
리드타임:
수량(개) | 1-1000 | >1000 |
예상 시간(일) | 30 | 협상 예정 |