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SiC 단결정 성장의 종자결정 준비 공정
탄화규소(SiC) 소재는 넓은 밴드갭, 높은 열전도도, 높은 임계 항복 전계 강도, 높은 포화 전자 표류 속도 등의 장점을 갖고 있어 반도체 제조 분야에서 매우 유망한 소재입니다. SiC 단결정은 일반적으로 다음을 통해 생산됩니다.더 읽어보세요 -
웨이퍼 연마 방법은 무엇입니까?
칩 생성과 관련된 모든 프로세스 중에서 웨이퍼의 최종 운명은 개별 다이로 절단되어 몇 개의 핀만 노출된 작고 밀폐된 상자에 포장되는 것입니다. 칩은 임계값, 저항, 전류 및 전압 값을 기준으로 평가되지만 아무도 고려하지 않습니다.더 읽어보세요 -
SiC 에피택셜 성장 공정의 기본 소개
에피택셜층은 에피택셜 공정에 의해 웨이퍼 위에 성장된 특정 단결정 필름을 말하며, 기판 웨이퍼와 에피택셜 필름을 에피택셜 웨이퍼라 한다. 전도성 탄화규소 기판 위에 탄화규소 에피층을 성장시킴으로써 탄화규소 균질 에피택셜 층을 형성할 수 있습니다.더 읽어보세요 -
반도체 패키징 공정 품질관리 핵심 포인트
반도체 패키징 공정 품질관리 핵심 포인트 현재 반도체 패키징 공정기술은 비약적으로 향상되고 최적화되고 있습니다. 그러나 전반적인 관점에서 볼 때 반도체 패키징 공정 및 방법은 아직 가장 완벽한 수준에 도달하지 못했습니다.더 읽어보세요 -
반도체 패키징 공정의 과제
현재의 반도체 패키징 기술은 점차 개선되고 있지만, 반도체 패키징에 자동화된 장비와 기술이 어느 정도 적용되느냐에 따라 기대되는 결과의 실현이 직접적으로 결정됩니다. 기존 반도체 패키징 공정은 여전히 어려움을 겪고 있습니다.더 읽어보세요 -
반도체 패키징 공정 연구 및 분석
반도체 공정 개요반도체 공정에는 주로 기판, 프레임 등 다양한 영역 내에서 칩과 기타 요소를 완전히 연결하기 위해 미세 가공 및 필름 기술을 적용하는 작업이 포함됩니다. 이를 통해 리드 단자 추출 및 캡슐화 작업이 용이해집니다.더 읽어보세요 -
반도체 산업의 새로운 트렌드: 보호 코팅 기술의 적용
반도체 산업은 특히 탄화규소(SiC) 전력 전자 분야에서 전례 없는 성장을 목격하고 있습니다. 전기 자동차의 SiC 장치에 대한 급증하는 수요를 충족하기 위해 많은 대규모 웨이퍼 팹이 건설 또는 확장을 진행하고 있는 가운데, 이 ...더 읽어보세요 -
SiC 기판 처리의 주요 단계는 무엇입니까?
SiC 기판의 생산 공정 단계는 다음과 같습니다. 1. 결정 배향: X선 회절을 사용하여 결정 잉곳의 배향을 조정합니다. X선 빔이 원하는 결정면을 향하면 회절된 빔의 각도에 따라 결정 방향이 결정됩니다.더 읽어보세요 -
단결정 실리콘 성장의 품질을 결정하는 중요한 소재 - 열장
단결정 실리콘의 성장 과정은 전적으로 열장에서 이루어진다. 좋은 열장은 결정 품질을 향상시키는 데 도움이 되며 결정화 효율이 높습니다. 열장의 설계는 크게 변화와 변화를 결정합니다...더 읽어보세요 -
에피택셜 성장이란 무엇입니까?
에피택셜 성장은 기판과 동일한 결정 방향을 가진 단결정 기판(기판) 위에 단결정층을 마치 원래의 결정이 바깥쪽으로 뻗어나간 것처럼 성장시키는 기술이다. 새로 성장한 이 단결정층은 기판과 다른 특성을 가질 수 있습니다.더 읽어보세요 -
기판과 에피택시의 차이점은 무엇입니까?
웨이퍼 준비 공정에는 두 가지 핵심 링크가 있습니다. 하나는 기판 준비이고 다른 하나는 에피택셜 공정의 구현입니다. 반도체 단결정 소재로 세심하게 제작된 웨이퍼인 기판을 웨이퍼 제조 공정에 직접 투입할 수 있습니다.더 읽어보세요 -
흑연 히터의 다양한 특성 공개
흑연 히터는 탁월한 특성과 다양성으로 인해 다양한 산업 분야에서 없어서는 안될 도구로 부상했습니다. 실험실에서 산업 환경에 이르기까지 이러한 히터는 재료 합성에서 분석 기술에 이르는 프로세스에서 중추적인 역할을 합니다. 다양한 중에서 ...더 읽어보세요