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반도체 공정 및 장비(4/7) - 포토리소그래피 공정 및 장비
하나의 개요 집적회로 제조 공정에서 포토리소그래피는 집적회로의 집적도를 결정하는 핵심 공정이다. 이 공정의 기능은 마스크(마스크라고도 함)로부터 회로 그래픽 정보를 충실히 전송, 전달하는 것입니다...더 읽어보세요 -
실리콘 카바이드 사각 트레이 란 무엇입니까?
Silicon Carbide Square Tray는 반도체 제조 및 가공용으로 설계된 고성능 운반 도구입니다. 주로 실리콘 웨이퍼, 실리콘 카바이드 웨이퍼 등 정밀 소재를 운반하는 데 사용됩니다. 매우 높은 경도, 고온 저항 및 화학적 특성으로 인해 ...더 읽어보세요 -
탄화규소 트레이란?
SiC 트레이라고도 알려진 탄화규소 트레이는 반도체 제조 공정에서 실리콘 웨이퍼를 운반하는 데 사용되는 중요한 소재입니다. 탄화규소는 고경도, 내열성, 내식성 등 우수한 특성을 갖고 있어 점차 전통적 소재를 대체하고 있습니다.더 읽어보세요 -
반도체 공정 및 장비（3/7)-가열 공정 및 장비
1. 개요 열처리라고도 알려진 가열은 일반적으로 알루미늄의 녹는점보다 높은 고온에서 작동하는 제조 절차를 의미합니다. 가열 공정은 일반적으로 고온로에서 수행되며 산화,...더 읽어보세요 -
반도체 기술 및 장비(2/7) - 웨이퍼 준비 및 처리
웨이퍼는 집적회로, 개별 반도체 장치, 전력 장치 생산을 위한 주요 원자재입니다. 집적 회로의 90% 이상이 고순도, 고품질 웨이퍼로 만들어집니다. 웨이퍼 준비 장비는 순수한 다결정 실리콘을 만드는 공정을 말합니다.더 읽어보세요 -
RTP 웨이퍼 캐리어란 무엇입니까?
반도체 제조에서의 역할 이해 첨단 반도체 처리에서 RTP 웨이퍼 캐리어의 핵심 역할 탐색 반도체 제조 세계에서 정밀성과 제어는 현대 전자 장치에 전력을 공급하는 고품질 장치를 생산하는 데 매우 중요합니다. 그 중 하나는 ...더 읽어보세요 -
에피 캐리어란 무엇입니까?
에피택셜 웨이퍼 처리에서 중요한 역할 탐구 첨단 반도체 제조에서 Epi 캐리어의 중요성 이해 반도체 산업에서 고품질 에피택셜(epi) 웨이퍼 생산은 장치 제조에서 중요한 단계입니다.더 읽어보세요 -
반도체 공정 및 장비(1/7) – 집적회로 제조공정
1.집적회로에 대하여 1.1 집적회로의 개념과 탄생 집적회로(IC): 트랜지스터, 다이오드 등의 능동소자와 저항기, 커패시터 등의 수동소자를 일련의 특수한 처리기술을 통해 결합한 소자를 말한다.더 읽어보세요 -
에피팬 캐리어란?
반도체 산업은 고품질 전자 장치를 생산하기 위해 고도로 전문화된 장비에 의존합니다. 에피택셜 성장 공정에서 중요한 구성 요소 중 하나는 에피팬 캐리어입니다. 반도체 웨이퍼에 에피층을 증착하는 데 중추적인 역할을 하는 장비입니다.더 읽어보세요 -
MOCVD 서셉터란 무엇입니까?
MOCVD 방법은 단상 InGaN 에피층, III-N 물질, 다중 양자우물 구조를 갖는 반도체 필름 등 고품질 단결정 박막을 성장시키기 위해 현재 업계에서 사용되는 가장 안정적인 공정 중 하나이며, 큰 징후를 보이고 있습니다. ...더 읽어보세요 -
SiC 코팅이란 무엇입니까?
탄화규소(SiC) 코팅은 뛰어난 물리적, 화학적 특성으로 인해 다양한 고성능 응용 분야에서 빠르게 필수 요소가 되고 있습니다. 물리적 또는 화학적 기상 증착(CVD)과 같은 기술이나 스프레이 방법을 통해 적용되는 SiC 코팅은 표면 품질을 변화시킵니다.더 읽어보세요 -
MOCVD 웨이퍼 캐리어란 무엇입니까?
반도체 제조 분야에서는 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 기술이 핵심 공정으로 빠르게 자리잡고 있으며, MOCVD Wafer Carrier는 핵심 부품 중 하나입니다. MOCVD 웨이퍼 캐리어의 발전은 제조 공정뿐만 아니라...더 읽어보세요