에피택시 웨이퍼 캐리어는 반도체 생산, 특히 산업 분야에서 중요한 구성 요소입니다.Si 에피택시그리고SiC 에피택시프로세스. Semicera는 신중하게 설계하고 제조합니다.웨이퍼매우 높은 온도와 화학적 환경을 견딜 수 있는 캐리어로 다음과 같은 응용 분야에서 탁월한 성능을 보장합니다.MOCVD 서셉터및 배럴 서셉터. 단결정 실리콘의 증착이든 복잡한 에피택시 공정이든 Semicera의 에피택시 웨이퍼 캐리어는 탁월한 균일성과 안정성을 제공합니다.
세미세라의에피택시 웨이퍼 캐리어기계적 강도와 열전도율이 우수한 첨단 소재로 제작되어 공정 중 손실과 불안정성을 효과적으로 줄일 수 있습니다. 게다가, 디자인의웨이퍼캐리어는 또한 다양한 크기의 에피택시 장비에 적응할 수 있어 전반적인 생산 효율성을 향상시킬 수 있습니다.
고정밀, 고순도 에피택시 공정이 필요한 고객에게 Semicera의 에피택시 웨이퍼 캐리어는 신뢰할 수 있는 선택입니다. 우리는 항상 고객에게 우수한 제품 품질과 신뢰할 수 있는 기술 지원을 제공하여 생산 프로세스의 신뢰성과 효율성을 향상시키는 데 최선을 다하고 있습니다.
✓중국 시장 최고 품질
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✓소규모 MOQ 환영 및 허용
✓맞춤 서비스
에피택시 성장 서셉터
실리콘/탄화규소 웨이퍼는 전자 장치에 사용되기 위해 여러 공정을 거쳐야 합니다. 중요한 공정은 실리콘/sic 웨이퍼가 흑연 베이스 위에 운반되는 실리콘/sic 에피택시입니다. Semicera의 탄화규소 코팅 흑연 베이스의 특별한 장점은 매우 높은 순도, 균일한 코팅 및 매우 긴 서비스 수명을 포함합니다. 또한 내화학성과 열 안정성이 높습니다.
LED 칩 생산
MOCVD 반응기의 광범위한 코팅 동안 유성 베이스 또는 캐리어는 기판 웨이퍼를 이동시킵니다. 모재의 성능은 코팅 품질에 큰 영향을 미치며, 이는 결국 칩의 폐기율에도 영향을 미칩니다. Semicera의 탄화규소 코팅 베이스는 고품질 LED 웨이퍼의 제조 효율성을 높이고 파장 편차를 최소화합니다. 또한 현재 사용 중인 모든 MOCVD 반응기에 추가 흑연 구성 요소를 공급합니다. 탄화규소 코팅으로 거의 모든 부품을 코팅할 수 있습니다. 부품 직경이 최대 1.5M인 경우에도 탄화규소로 코팅할 수 있습니다.
반도체분야, 산화확산공정, 등.
반도체 공정에서 산화 팽창 공정은 높은 제품 순도를 요구하며, Semicera에서는 대부분의 탄화규소 부품에 대해 맞춤형 및 CVD 코팅 서비스를 제공합니다.
다음 사진은 Semicea의 거칠게 가공된 탄화규소 슬러리와 100에서 세척된 탄화규소 용광로 튜브를 보여줍니다.0-수준먼지가 없는방. 저희 작업자들은 코팅 전 작업을 하고 있습니다. 탄화규소의 순도는 99.98%에 도달할 수 있으며, SiC 코팅의 순도는 99.9995% 이상입니다..
Cleaing의 원시 탄화 규소 패들 및 SiC 공정 튜브
실리콘 카바이드 웨이퍼 보트 CVD SiC 코팅
