Semicera는 다음을 소개하게 된 것을 자랑스럽게 생각합니다.CVD 샤워 헤드~와 함께SiC 코트, 효율적이고 안정적인 장비에 대한 현대 반도체 및 재료 과학 분야의 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 특별히 디자인된실리콘 카바이드 코팅이 샤워 헤드는 극한의 화학적, 열적 조건에서도 탁월한 성능을 유지하여 장비의 내구성을 크게 향상시킵니다.
CVD 공정 중에CVD 샤워 헤드SiC 코팅은 특히 고순도 석영 및 석영 가공 시 재료 증착의 균일성과 안정성을 보장합니다.웨이퍼. 세미세라의 샤워헤드는 최적화된 코팅기술을 통해 반응시간을 단축하고 전체적인 공정효율을 향상시키며 생산원가를 절감할 수 있습니다.
또한 샤워 헤드는 다음과 호환됩니다.TAC코팅기술을 통해 고객에게 보다 유연한 애플리케이션 옵션을 제공합니다. Semicera의 R&D 팀은 시장에서 SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드의 경쟁력과 선도적 위치를 확보하기 위해 첨단 소재와 기술을 지속적으로 탐색하고 있습니다.
SiC 코팅이 적용된 Semicera의 CVD 샤워 헤드를 선택하면 CVD 애플리케이션에서 최상의 증착 결과를 달성하는 데 도움이 되는 고성능의 신뢰할 수 있는 제품을 얻을 수 있습니다. Semicera는 항상 고객에게 고품질 반도체 솔루션을 제공하고 업계의 발전과 혁신을 촉진하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
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