청색/녹색 LED 에피택시

간단한 설명:

당사는 흑연, 세라믹 및 기타 소재의 표면에 CVD 공법으로 SiC 코팅 공정 서비스를 제공하고 있으며, 탄소와 실리콘을 함유한 특수 가스를 고온에서 반응시켜 고순도의 SiC 분자, 코팅된 소재의 표면에 증착된 분자, SiC 보호층을 형성합니다.

 

제품 세부정보

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semicera의 청색/녹색 LED 에피택시는 고성능 LED 제조를 위한 최첨단 솔루션을 제공합니다. 첨단 에피택셜 성장 공정을 지원하도록 설계된 세미세라의 청색/녹색 LED 에피택시 기술은 다양한 광전자공학 애플리케이션에 중요한 청색 및 녹색 LED 생산의 효율성과 정밀도를 향상시킵니다. 최첨단 Si Epitaxy 및 SiC Epitaxy를 활용하는 이 솔루션은 탁월한 품질과 내구성을 보장합니다.

제조 공정에서 MOCVD Susceptor는 PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier, RTP Carrier와 같은 구성 요소와 함께 에피택셜 성장 환경을 최적화하는 데 중요한 역할을 합니다. Semicera의 청색/녹색 LED 에피택시는 LED 에피택셜 서셉터, 배럴 서셉터 및 단결정 실리콘을 안정적으로 지원하도록 설계되어 일관된 고품질 결과의 생산을 보장합니다.

이 에피택시 프로세스는 광전지 부품을 만드는 데 필수적이며 SiC 에피택시의 GaN과 같은 애플리케이션을 지원하여 전반적인 반도체 효율성을 향상시킵니다. 팬케이크 서셉터 구성에서든 다른 고급 설정에서 사용하든, semicera의 청색/녹색 LED 에피택시 솔루션은 안정적인 성능을 제공하여 제조업체가 고품질 LED 부품에 대한 증가하는 수요를 충족할 수 있도록 돕습니다.

주요 특징:

1. 고열 산화 저항:

산화 저항은 온도가 1600C만큼 높을 때 여전히 매우 좋습니다.

2. 고순도 : 고온 염소화 조건에서 화학 기상 증착으로 만들어졌습니다.

3. 내식성: 높은 경도, 조밀한 표면, 미세 입자.

4. 내식성 : 산, 알칼리, 염분 및 유기 시약.

 주요사양CVD-SIC 코팅

SiC-CVD 속성

결정 구조 FCC β상
밀도 g/cm ³ 3.21
경도 비커스 경도 2500
입자 크기 μm 2~10
화학적 순도 % 99.99995
열용량 J·kg-1·K-1 640
승화 온도 2700
굽힘 강도 MPa(RT 4점) 415
영률 Gpa (4pt 굴곡, 1300℃) 430
열팽창(CTE) 10-6K-1 4.5
열전도율 (W/mK) 300

 

 
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