2~6인치 4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판

간단한 설명:

4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판‌은 특정 반도체 소재입니다. 여기서 "4° 오프 앵글"은 웨이퍼의 결정 방향 각도가 4도 오프 각도인 것을 의미하고 "P-타입"은 반도체의 전도성 유형. 이 재료는 반도체 산업, 특히 전력 전자공학 및 고주파 전자공학 분야에서 중요한 응용 분야를 가지고 있습니다.


제품 세부정보

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Semicera의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 고성능 전력 및 RF 장치 제조업체의 증가하는 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 4° 오프 각도 방향은 최적화된 에피택시 성장을 보장하므로 이 기판은 MOSFET, IGBT 및 다이오드를 포함한 다양한 반도체 장치의 이상적인 기반이 됩니다.

이 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 높은 열전도율, 우수한 전기적 성능, 뛰어난 기계적 안정성을 비롯한 우수한 재료 특성을 가지고 있습니다. 오프앵글 방향은 마이크로파이프 밀도를 줄이는 데 도움이 되고 더 부드러운 에피택셜 층을 촉진합니다. 이는 최종 반도체 장치의 성능과 신뢰성을 향상시키는 데 중요합니다.

Semicera의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 다양한 제조 요구 사항을 충족하기 위해 2인치~6인치 범위의 다양한 직경으로 제공됩니다. 당사의 기판은 균일한 도핑 수준과 고품질 표면 특성을 제공하도록 정밀하게 설계되어 각 웨이퍼가 고급 전자 응용 분야에 필요한 엄격한 사양을 충족하도록 보장합니다.

혁신과 품질에 대한 Semicera의 노력은 당사의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판이 전력 전자 장치에서 고주파 장치에 이르기까지 광범위한 응용 분야에서 일관된 성능을 제공하도록 보장합니다. 이 제품은 에너지 효율적인 차세대 고성능 반도체를 위한 안정적인 솔루션을 제공하여 자동차, 통신, 재생 에너지와 같은 산업의 기술 발전을 지원합니다.

크기 관련 표준

크기 2인치 4인치
지름 50.8mm±0.38mm 100.0mm+0/-0.5mm
표면 방향 <11-20>±0.5° 방향으로 4° <11-20>±0.5° 방향으로 4°
1차 플랫 길이 16.0mm±1.5mm 32.5mm±2mm
2차 플랫 길이 8.0mm±1.5mm 18.0mm ± 2mm
기본 평면 방향 평행도 <11-20>±5.0° 평행<11-20>±5.0c
보조 평면 방향 기본 ± 5.0°에서 90°CW, 실리콘이 위로 향함 기본 ± 5.0°에서 90°CW, 실리콘이 위로 향함
표면 마감 C-페이스: 광학 광택제, Si-페이스: CMP C-페이스:OpticalPolish, Si-페이스: CMP
웨이퍼 에지 베벨링 베벨링
표면 거칠기 Si-페이스 Ra<0.2nm Si-페이스 Ra<0.2nm
두께 350.0±25.0um 350.0±25.0um
폴리타입 4H 4H
도핑 p형 p형

크기 관련 표준

크기 6인치
지름 150.0mm+0/-0.2mm
표면 방향 <11-20>±0.5° 방향으로 4°
1차 플랫 길이 47.5mm ± 1.5mm
2차 플랫 길이 없음
기본 평면 방향 <11-20>±5.0°에 평행
보조플랫 방향 1차측에서 90°CW ± 5.0°, 실리콘 페이스 업
표면 마감 C-페이스: 광학 광택제, Si-페이스:CMP
웨이퍼 에지 베벨링
표면 거칠기 Si-페이스 Ra<0.2nm
두께 350.0±25.0μm
폴리타입 4H
도핑 p형

라만

2~6인치 4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판-3

흔들리는 곡선

2~6인치 4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판-4

전위밀도(KOH 에칭)

2~6인치 4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판-5

KOH 에칭 이미지

2~6인치 4° 오프 앵글 P형 4H-SiC 기판-6
SiC 웨이퍼

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