Semicera의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 고성능 전력 및 RF 장치 제조업체의 증가하는 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 4° 오프 각도 방향은 최적화된 에피택시 성장을 보장하므로 이 기판은 MOSFET, IGBT 및 다이오드를 포함한 다양한 반도체 장치의 이상적인 기반이 됩니다.
이 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 높은 열전도율, 우수한 전기적 성능, 뛰어난 기계적 안정성을 비롯한 우수한 재료 특성을 가지고 있습니다. 오프앵글 방향은 마이크로파이프 밀도를 줄이는 데 도움이 되고 더 부드러운 에피택셜 층을 촉진합니다. 이는 최종 반도체 장치의 성능과 신뢰성을 향상시키는 데 중요합니다.
Semicera의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판은 다양한 제조 요구 사항을 충족하기 위해 2인치~6인치 범위의 다양한 직경으로 제공됩니다. 당사의 기판은 균일한 도핑 수준과 고품질 표면 특성을 제공하도록 정밀하게 설계되어 각 웨이퍼가 고급 전자 응용 분야에 필요한 엄격한 사양을 충족하도록 보장합니다.
혁신과 품질에 대한 Semicera의 노력은 당사의 2~6인치 4° 오프각 P형 4H-SiC 기판이 전력 전자 장치에서 고주파 장치에 이르기까지 광범위한 응용 분야에서 일관된 성능을 제공하도록 보장합니다. 이 제품은 에너지 효율적인 차세대 고성능 반도체를 위한 안정적인 솔루션을 제공하여 자동차, 통신, 재생 에너지와 같은 산업의 기술 발전을 지원합니다.
크기 관련 표준
크기 | 2인치 | 4인치 |
지름 | 50.8mm±0.38mm | 100.0mm+0/-0.5mm |
표면 방향 | <11-20>±0.5° 방향으로 4° | <11-20>±0.5° 방향으로 4° |
1차 플랫 길이 | 16.0mm±1.5mm | 32.5mm±2mm |
2차 플랫 길이 | 8.0mm±1.5mm | 18.0mm ± 2mm |
기본 평면 방향 | 평행도 <11-20>±5.0° | 평행<11-20>±5.0c |
보조 평면 방향 | 기본 ± 5.0°에서 90°CW, 실리콘이 위로 향함 | 기본 ± 5.0°에서 90°CW, 실리콘이 위로 향함 |
표면 마감 | C-페이스: 광학 광택제, Si-페이스: CMP | C-페이스:OpticalPolish, Si-페이스: CMP |
웨이퍼 에지 | 베벨링 | 베벨링 |
표면 거칠기 | Si-페이스 Ra<0.2nm | Si-페이스 Ra<0.2nm |
두께 | 350.0±25.0um | 350.0±25.0um |
폴리타입 | 4H | 4H |
도핑 | p형 | p형 |
크기 관련 표준
크기 | 6인치 |
지름 | 150.0mm+0/-0.2mm |
표면 방향 | <11-20>±0.5° 방향으로 4° |
1차 플랫 길이 | 47.5mm ± 1.5mm |
2차 플랫 길이 | 없음 |
기본 평면 방향 | <11-20>±5.0°에 평행 |
보조플랫 방향 | 1차측에서 90°CW ± 5.0°, 실리콘 페이스 업 |
표면 마감 | C-페이스: 광학 광택제, Si-페이스:CMP |
웨이퍼 에지 | 베벨링 |
표면 거칠기 | Si-페이스 Ra<0.2nm |
두께 | 350.0±25.0μm |
폴리타입 | 4H |
도핑 | p형 |